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반도체 '포토레지스트' 특허, 일본 기업이 절반 점유
반도체 '포토레지스트' 특허, 일본 기업이 절반 점유
  • 이진수 기자
  • 승인 2019.07.30 18:30
  • 댓글 0
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롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨
롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨가 낸 포토레지스트 특허 중 하나. (출처=특허청)

[더리포트] 국내에 등록한 일본의 수출규제 품목 ‘포토레지스트’의 특허 절반 가까이를 일본 기업이 점유하고 있는 것으로 나타났다.

포토레지스트는 반도체 원료인 웨이퍼 위에 도포하는 ‘감광액’이다. 빛을 받아 반도체 회로를 새기는 특수 고분자물질로 400여 개 반도체 공정 가운데 30여 개에 포토레지스트를 사용한다.

자유한국당 곽대훈 의원은 30일 특허청에서 제출받은 '일본 수출규제 국내특허 현황'을 분석한 결과, 포토레지스트 제조 기술 관련 국내 등록 특허 855건 가운데 45%(389건)이 일본 기업 특허라고 밝혔다.

조사결과 일본의 신에츠화학공업이 포토레지스트 제조 기술 특허를 가장 많이 보유(299건)했다. 이어 후지필름이 98건, 닛산화학공업 38건, 니콘 24건이었다. 우리 기업 중에서는 동진쎄미켐이 64건, 금호석유화학은 30건의 특허를 보유하고 있다.

가장 뜨거운 이슈가 되는 고순도 불화수소 관련 특허 기술은 우리나라의 씨엔비산업과 일본의 다이킨, 미국의 하니웰, 미드웨스트 리프리저런트와 학계가 1건씩 등록했다.

플루오린 폴리이미드 관련 기술 등록 특허는 LG화학이 28건, 코오롱인더스트리 19건, SKC 8건, 아사히카세이 5건, 스미토모화학 5건, 삼성전자 4건, 카네카 3건, 도레이케미칼 3건, 미쓰비시 3건, 미쓰이화학 3건 순으로나타났다.

곽대훈 의원실은 "정부가 롱 리스트를 통해 일본 수출규제에 대비한 것처럼 말했지만 실상은 가장 아픈 3가지 소재의 국내 특허 현황 같은 기초자료도 조사하지 않은 상태"라며 “특허 등록에 대한 분석 없이 섣불리 연구개발(R&D)을 추진했다가 특허 분쟁에 휘말릴 수 있다”고 우려했다. 보통 특정 분야의 특허 분석을 위해서는 보통 5~6개월이 소요된다.


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