[더리포트=김태우기자] 나노 기술 전문 기업 석경에이티(대표 임형섭)가 중공 실리카(hollow silica)를 활용한 기능성 원단의 미국 특허를 따냈다고 27일 공시했다.  이번 미국 특허권 취득은 한국과 일본에 이어 세 번째다.

석경에이티는 자체 연구개발한 중공 실리카 입자가 우수한 강도를 보유하고 있어 적은 양으로 효과적인 단열 성능을 가지며 투습, 방습 및 방수재로 활용할 수 있다고 설명했다.

임형섭 대표는 “중공 실리카 등 이미 확보한 나노 핵심 기술을 활용해 다양한 산업 및 생활에서 활용될 가능성을 열어두고 연구개발에 투자를 아끼지 않고 있다”며, “기존 사업의 안정적인 실적 향상에 더해 현재 추진 중인 신사업을 정상 궤도에 올려 퀀텀점프를 달성하겠다”고 말했다.